叶剑
,
曹春斌
功能材料
在硅片和石英上利用射频溅射法沉积了TiO2薄膜,并分别在空气中进行了退火处理。利用椭偏光谱仪对硅片上薄膜进行了椭偏测试,利用紫外-可见分光光度计对石英上薄膜进行了透射光谱测试。利用解谱软件对椭偏谱和透射谱进行了建模解谱,获得了不同基片上薄膜在不同退火温度下的折射指数和消光系数,发现和TiO2块材的光学常数也有明显的区别。通过计算得到了系列薄膜的光学带隙,带隙值范围从3.35～3.88eV,可以为薄膜态TiO2体系的光学应用、设计和相关理论研究提供一定的依据。
关键词:
射频磁控溅射
,
TiO2薄膜
,
椭圆偏振技术
,
光学性能
余刚
,
付静
,
刘益环
,
蓝知惟
材料科学与工程学报
本文通过光谱椭偏仪测量浮法玻璃空气面和锡面的偏振信息,利用Cauchy光学模型分析得到浮法玻璃两表面的布鲁斯特角和光学常数,分析结果表明浮法玻璃空气面、锡面、理想玻璃界面的布鲁斯特角分别为56.7°、57°和56.8°,空气面形成疏松的表面层,厚度为2.75nm,折射率小于玻璃本底,锡面形成锡扩散表面层,厚度为81.29nm,折射率大于玻璃本底折射率,并且随厚度呈现出非线性梯度变化,结合透光率数据分析得到玻璃消光系数在10-6量级。由于浮法玻璃空气面和锡面的折射率明显不同,需要在后续玻璃镀膜光学设计时区别对待。
关键词:
光谱椭偏仪
,
空气面
,
锡面
,
布鲁斯特角
,
光学常数
孙瑶
,
汪洪
航空材料学报
doi:10.11868/j.issn.1005-5053.2015.4.005
采用射频反应溅射制备SiNx薄膜,作为以Ag膜为功能层的D/M/D结构透明导电膜中的电介质膜,并研究射频功率、气压以及N2流量对SiNx薄膜光学常数的影响.结果表明,SiNx薄膜具有非晶态结构,光学常数在300～ 2500nm波长范围内符合正常色散关系.椭偏测试及Cauchy模型拟合结果表明,折射率随功率、气压以及N2流量升高而降低,SiNx光学常数最佳的工艺条件为功率300W,气压0.16Pa,N2与Ar流量比例1∶1,此时薄膜折射率为2.02,消光系数为0,最接近具有化学计量比的Si3N4薄膜的光学常数.按此工艺制备的SiNx膜在优化厚度为44nm的条件下作为20nm厚度Ag膜的电介质膜,当只有表面SiNx膜时,Ag膜透光率由29.17％提高至55.01％,当Ag膜上下均制备SiNx膜时,透光率进一步提高至66.12％.
关键词:
SiNx膜
,
Ag膜
,
折射率
,
椭偏仪
,
透光率
汤猛
,
李勇男
,
殷波
,
钟传杰
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20163112.1124
基于溶液旋涂法和高压退火工艺制备了 a-IGZO 薄膜。采用椭圆偏振光谱分析仪以及原子力显微镜研究和分析了H 2 O 2对薄膜的表面结构和光学特性的影响。实验结果表明,a-IGZO 前驱液中不含 H 2 O 2的薄膜,退火温度从220℃升高到300℃,薄膜的光学带隙从3．03增加到3．29,而膜表面粗糙层由20．69 nm 降至4．68 nm。在同样的高压退火条件处理下,与前驱液中没加入 H 2 O 2的薄膜相比,折射率显著增加并明显的降低了薄膜表面粗糙度。退火温度在300℃时,薄膜的光学带隙由3．29 eV 增大到3．34 eV,表面粗糙层由4．68 nm 减少到2．89 nm。因此,H 2 O 2可以在相对低温条件下有效降低薄膜内部的有机物残留及微缺陷,形成更加致密的 a-IGZO 薄膜。证明了利用 H 2 O 2能够有效降低溶液法制备 a-IGZO 薄膜所需的退火温度。
关键词:
a-IGZO 薄膜
,
H2O2 溶液
,
椭圆偏振光谱
,
致密性
许世鹏
,
李玉宏
,
陈维铅
,
林莉
,
李江
,
薛仰全
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.02.019
目的：联合使用光谱型椭偏仪( SE)和分光光度计,精确测定超薄四面体非晶碳薄膜( ta-C)的光学常数。方法由于该薄膜的厚度对折射率、消光系数有很大的影响,仅采用椭偏参数拟合,难以准确得到该薄膜的光学常数,椭偏法测定的未知参数数量大于方程数,椭偏方程无唯一解。因此,加入透过率与椭偏参数同时进行拟合(以下简称SE+T法),以简单、快速、准确地得到该薄膜的光学常数。结果薄膜具有典型的非晶碳膜特征,SE和SE+T两种拟合方法得到的光学常数具有明显的差异,消光系数k在可见以及红外区最大差值可达0.020,紫外区最大的偏差约为0.005；折射率n在500 nm 波长以上最大差值为0.04,在紫外光区和可见光区两种方法得到的n趋于一致。联用时的拟合结果具有更好的唯一性,而且拟合得到的光学常数变得平滑。结论椭偏与分光光度计联用适合精确测定测量范围内的超薄四面体非晶薄膜的光学常数。
关键词:
ta-C
,
薄膜
,
光学常数
,
椭偏仪
,
分光光度计
,
色散模型
